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仿真時出現的unstable問題,請教!(已修改)

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偶在仿真一個芯片封裝時,在"Transient Analysis....Process excitation"結束后,CST報告
“the calculation seems to be unstable,”, 然后就被迫“abort"了。

但是根據提示去作(就是減少PBA fill limit, 或者減少stability factor,
俺試了很多個值),
上述問題仍舊存在,CST就是不給算,郁悶!

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2007-06-06 新補充:

看樣子很難哦,已經試了2個星期了,沒有太大進展。
現在俺把一些主要的參數列一下,看各位高人有沒有辦法。
主要是一個多層結構,見圖(由于有版權問題,所以不能顯示結構全圖,抱歉了)
空間波長為7mm,但是金屬層厚度為0.015mm,層間間隔為0.025mm,有多層此種結構。
整個部件size為 7X5X2mm. 2 pin 共 4 個i/o口,用lumped port設置(不能用wave port)
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當前的考慮,若考慮到采樣率(PPW - point per wavelength),最小關鍵尺寸為0。015mm,那么
ppw = 0.015/7 = 470,mesh數將達到1.6e9,內存需求>2GB,CST2006B不讓算了。
若采用CST example 中的“IC package"方法,ppw = 15, 邊mesh點數=20, cell size ration = 20;
加上"subgrid" 和 "adaptive mesh",總cell數降為2e6;但是還是"unstable".
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由于結構復雜,mesh太密,手工修改mesh沒有意義。

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各位大大,有啥子建議不?


it.JPG


22.JPG


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